Heraeus Conamic stellt Quarzglasprodukte für Halbleiteranwendungen in einer Vielzahl von Materialqualitäten und Abmessungen her. Die angebotenen Produkte zeichnen sich durch hohe Reinheit und Materialhomogenität bei gleichzeitig geringem Blasengehalt und engen Abmessungstoleranzen aus.
Produktportfolio für Halbleiteranwendungen
Das Produktportfolio von Heraeus Conamic für Halbleiteranwendungen kann in zwei Hauptbereiche – je nach Art der Herstellung – unterteilt werden:
Basisprodukte aus Quarzglas
Quarzglas-Basismaterialien
Unter Quarzglas-Basismaterialien verstehen wir die grundlegenden Produktgeometrien wie Blöcke, Stäbe, Rohre, Platten und mehr. Heraeus Conamic bietet in diesem Bereich Produkte in einer standardisierten Form an, die bereits in bestimmten geometrischen Dimensionen wie Außendurchmesser, Wandstärke oder Länge an die Endanwendung angepasst werden können.
Quarzglaskomponenten
Im Bereich der Quarzglaskomponenten bietet Heraeus Conamic Quarzglasprodukte an, die entsprechend der Zeichnung für die endgültige Anwendung weiterbearbeitet werden. Dies ermöglicht unseren Kunden, Quarzglaskomponenten in den finalen Geometrien aus den Händen eines kompetenten Anbieters zu erhalten. Unsere Quarzglaskomponenten lassen sich nach der Produktionsart der Halbleiteranwendungen unterscheiden:
Quarzglasprodukte für Single-Wafer-Anwendungen
Heraeus ist in der Lage, Quarzglasprodukte wie z.B. Ringe, Fenster, Dome und Liner für alle gängigen Single-Wafer-Anwendungen zu liefern. Üblicherweise handelt es sich dabei um Quarzteile in denen 6 bis 12 Zoll-Wafer (andere Größen auf Anfrage) verarbeitet werden
Um eine optimale Leistung der fertigen Quarzglasprodukte zu gewährleisten, ist die Wahl des geeigneten Rohmaterials, der Oberflächenstruktur und der Reinheit von entscheidender Bedeutung. Durch ein weltweites Netzwerk bietet Heraeus Conamic Designunterstützung an.
Quarzglasprodukte für Batchöfen
Im Bereich von Batchöfen bietet Heraeus Conamic Quarzglasprodukte für alle gängigen Anwendungen, wie z.B. für die chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapour Deposition, CVD), die epitaktische Abscheidung und andere Hochtemperaturverfahren an. Beispiele hierfür sind sind Prozessrohre, Liner, Sockel, Gasinjektoren und viele weitere komplexe Komponenten. Üblicherweise handelt es sich dabei um Quarzteile in denen 4 bis 12 Zoll-Wafer verarbeitet werden
Darüber hinaus kann Heraeus auch einsatzfähige (CFI) Quarzglasprodukte zur Verfügung stellen, so dass Kunden unsere Produkte direkt nach der Lieferung und ohne weitere Behandlung verwenden können.
Um eine optimale Leistung der endgültigen Quarzglasprodukte zu gewährleisten, bietet Heraeus Conamic über sein weltweites Fertigungsnetzwerk Designunterstützung an.
Materialqualitäten für Halbleiteranwendungen
Unsere Materialqualitäten können nach der zugrunde liegenden Produktionstechnologie, die für die Herstellung der Endprodukte verwendet wird, unterschieden werden. Nachfolgend finden Sie eine Übersicht über die verschiedenen Materialqualitäten, die Heraeus Conamic anbietet, hervorgehoben mit dem Hauptmerkmal in diesem Anwendungssegment:
Elektrisch geschmolzenes Quarzglas (HSQ®)
Unsere Produkte aus elektrisch geschmolzenem Quarzglas sind der Maßstab für hohe thermische Stabilität bei gleichzeitig hoher Reinheit und Homogenität des Materials. Die Produkte aus synthetischem Quarzglas bieten eine hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität. Beide Produkttypen sind in verschiedenen Geometrien und Größen unter der Heraeus Conamic Marke HSQ® erhältlich.
Flammengeschmolzenes Quarzglas (TSC®)
Heraeus Conamic nutzt ein kontinuierliches Schmelzverfahren zur Herstellung von flammengeschmolzenem TSC® Quarzglas*. Dieses einzigartige Verfahren ermöglicht den Kunden die Verwendung von Material mit einem sehr geringen Anteil an Blasen und Einschlüssen bei gleichzeitig hoher Reinheit. * Für TSC-T® synthetischer Soot-Prozess
Synthetisches Quarzglas (Neonyx®)
Heraeus Conamic stellt synthetische Quarzglasprodukte her, die den höchsten Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht werden. Die entsprechenden Materialqualitäten zeichnen sich durch eine Reinheit von parts ber billion und einen Nullblasengehalt aus.
Weiß-opakes Quarzglas (OM®)
Heraeus Opaque Material OM®100 ist ein weißes, opakes, hochreines Quarzglas. Die zugrundeliegende Herstellungstechnologie führt zu einer einzigartigen Mikroporosität, die im Vergleich zu anderen opaken Materialien eine hohe Wärmereflexion bietet.
Schwarz-opakes Quarzglas (HBQ®)
Heraeus Black Quartz HBQ®100 ist ein schwarzer, opaker, hochreiner Quarzglasverbundwerkstoff. Zusätzlich zu unserem weißen opaken Material (OM®100) und klaren Quarzglasmaterialien (HSQ®) bietet HBQ®100 einzigartige Vorteile für individuelle Herausforderungen wie die Wärmeabsorption in der Endanwendung.
Weitere Materialqualitäten
Materialqualität | Produktion Typ | Anwendung | Merkmal |
HSQ® 100 | Elektrisch | Industriell | Hohe thermische StabilitätKostengünstige Lösung durch einstufiges elektrisches Schmelzverfahren, hohe chemische Reinheit |
HSQ® 300 | Elektrisch | Halbleiter, Solar und industriell | Hohe thermische Stabilität, sehr hohe chemische Reinheit, geringer Gehalt an Blasen und Einschlüssen |
HSQ® 330 (S) | Elektrisch | Hoch- und superhochreine Halbleiter | Hohe thermische Stabilität, sehr hohe chemische Reinheit, insbesondere mit strengeren Grenzwerten für alkalische und metallische Verunreinigungen, geringer Gehalt an Blasen und Einschlüssen |
HSQ® 400 | Elektrisch | Industriell, Solar, Halbleiter | Sehr hohe thermische Stabilität dank chemischer Stabilisierungsschicht, hoher chemischer Reinheit, geringem Gehalt an Blasen und Einschlüssen |
HSQ® 700 | Elektrisch | Halbleiter, industriell | Hohe thermische Stabilität, sehr hohe chemische Reinheit, insbesondere geringe Konzentration von Alkalimetallen, geringer Gehalt an Blasen und Einschlüssen |
TSC®-3N | Flamme | Halbleiter, besonders geeignet für Ätzsysteme | Sehr geringer Gehalt an Luftblasen und EinschlüssenKosteneffiziente Lösung durch Flammschmelzverfahren mit hohem Volumen, hohe chemische Reinheit |
TSC®-3 | Flamme | Halbleiter, insbesondere für Ätzsysteme | Sehr geringer Gehalt an Luftblasen und Einschlüssen, sehr hohe chemische Reinheit, auch in großen Geometrien erhältlich |
TSC®-4 | Flamme | Halbleiter, insbesondere für Ätzsysteme | Sehr geringer Gehalt an Luftblasen und Einschlüssen, sehr hohe chemische Reinheit, besonders niedriger Aluminium- und niedriger Alkaligehalt, auch in großen Geometrien erhältlich |
OM® 100 | Gesintert | Halbleiter, Industrie, Solar | Hohe Wärmereflexionsehr hohe chemische Reinheit, hervorragende Oberflächengüte |
HBQ® 100 | Gesintert | Halbleiter, Solar, Industrie | Hohe thermische und optische Absorptionsehr hohe chemische Reinheit, hohes thermisches Emissionsvermögen |
HSQ®-T | Synthetisch | Zukunftsweisende Halbleiteranwendungen | Hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität, die meisten Elemente unterhalb der Nachweisgrenze, erhältlich in verschiedenen Geometrien |
TSC®-T | Synthetisch | Führende Halbleiteranwendungen, insbesondere für Ätzsysteme | Hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität, praktisch blasen- und einschlussfrei, ausgewählte Geometrien in großen Mengen verfügbar |
Neonyx® OM | Synthetisch | Zukunftsweisende Halbleiteranwendungen | Hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität, erhöhte thermische Reflexionseigenschaften, auch in endkonturnahen Geometrien erhältlich |
HSQ® 900 | Synthetisch | Zukunftsweisende Halbleiteranwendungen | Hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität, nahezu blasen- und einschlussfrei, in verschiedenen Geometrien erhältlich |
Spectrosil® 1000 | Synthetisch | Zukunftsweisende Halbleiteranwendungen | Hervorragende chemische Reinheit in synthetischer Qualität, nahezu blasen- und einschlussfrei, auch als großes Blockmaterial erhältlich |
